Установка Helios NanoLab 660 для нанолитографии

Установка Helios NanoLab 660 находится на этапе ввода в эксплуатацию.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Вакуумная откачка общая - Безмасляная, ТМН
Откачка электронной колонны - Два ионно-геттерных насоса
Откачка ионной колонны  - Один ионно-геттерный насос
Уровень высокого вакуума в камере -  6×10-4Па
Источник электронной колонны - катод Шоттки
Диапазон ускоряющих напряжений  200-30000В
Разрешение в режиме высокого вакуума при ускоряющем напряжении -  30 кВ во вторичных электронах 1.2нм
Разрешение в режиме высокого вакуума при ускоряющем напряжении - 30 кВ в обратно-отраженных электронах 2.5нм
Источник ионов -  Ga, жидкометаллический
Ускоряющее напряжение   500- 30000В
Локальное осаждение  Pt, W, Cr, SiO2, C

Информация о производителе

  • Страна производства: Нидерланды
  • Год выпуска: 2015
  • Изготовитель: NanoLab
  • Марка: Helios NanoLab 660
  • Классификатор: Специальные технологические установки