Результаты поиска для: Установки и оборудование для ультразвуковой обработки
Оптическая установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
Предназначена для производства микросхем.
Для маленьких и хрупких подложек используется экспонирование при низковакуумном контакте.
При этом виде контактирования снижается нагрузка по подложку. Достигается разрешение, превышающее параметры при мягком и жестком контакте.
Устройство центрифугирования фоторезиста WS-400A (Laurell Technologies)
Предназначена для изготовления наноструктур на основе фоторезиста
Установка для напыления пленок PLD/MBE модель PVD-2300 (PVD)
Установка предназначена для напыления пленок методом лазерного испарения в вакууме с использованием эксимерного лазера
Установки термического напыления пленок ВУП-2
Установка предназначена для напыления плёнок методом термического испарения в вакууме: алюминия (1 установка), индия и свинца (2я установка).
СКВИД-магнитометр для измерений в малых полях
СКВИД-магнитометр для измерений в малых полях предназначен для измерения магнитного момента в диапазоне температур 2 - 350 К и полей 0 - 2500 Oe
Установка импульсного лазерного напыления ВТСП ВУ-500 гетероструктур с модулем скоростной фильтрации
Установка предназначена для напыления пленок методом лазерного испарения в вакууме
Вибрационный магнитометр; вставка в криомагнитную систему с полем 21Т
Магнитометр предназначен для измерения намагниченности (на постоянном токе) малых образцов в условиях сильных магнитных полей и в широком диапазоне температур.
Установка для подготовки образцов к измерениям методом ультразвуковой микросварки
Ультразвуковая микросварка тонких (10-50мкм) проволочных подводов к исследуемым образцам
Криомагнитная система для исследований в магнитных полях до 21 Тесла
Криомагнитная система для исследований в магнитных полях до 21 Тесла
Криомагнитная система 15 Тесла
В криомагнитной системе 15 Тесла (Intermagnetics 165NS40H) осуществляются измерения проводимости на постоянном и переменном токе
