Результаты поиска для: Специальные технологические установки
Отечественный протонный синхротрон «Прометеус» - ФТЦ, ФИАН, Протвино
Отечественный протонный синхротрон «Прометеус» ФТЦ ФИАН в г. Протвино предназначен для протонной терапии новообразований у онкологических больных с использованием методики дистанционной радиационной терапии
Высокотемпературная трубчатая печь «Nabertherm RT 50-250/12»
Используется в случаях, когда необходимо проведение лабораторных опытов в горизонтальном или вертикальном положении или при определенном угле
Двойной герметичный бокс СПЕКС GB-02
Двойной герметичный бокс СПЕКС GB-02 с интегрированной газоочистительной системой предназначен для работы с химически активными веществами, а также соединениями, чувствительными к содержанию кислорода, либо следов влаги в атмосфере.
Комплекс установок для создания МДП-структур на поверхности образцов любых веществ
МДП структуры обеспечивают возможность воздействия на поверхность электрическим полем до 108 В/м.
Дифрактометры ДРОН-2.0, ДРОН-3.0 и двухкристальный спектрометр ДТС-1.
Ренгенодифракционные исследования ВТСП материалов.
Рентгенодифракционные исследования эпитаксиальных пленок и квантовых ям полупроводниковых материалов.
Установка для рентгеноструктурного анализа Rigaku Miniflex 600
Предназначена для рентгеноструктурного анализа материалов
Характеристики
- Мощность трубки — 600Вт
- Материал анода — Cu
- Фиксированная щель (на выходной пучок) — 1,25°; 0.625°
- Щель подавления фона (на приемном пучке) — 1.25°
- Приемная щель — 0.3мм
- Радиус гониометра — 150мм
- Диапазон углов сканирования — -3 +145°
- Минимальный шаг — 0.01°
- Разрешение, не хуже — 0.01°
- Детектор — сцинтилляционный NaI
- Монохроматор Kb никелевый фильтр
Комплект оборудования для твердофазного синтеза, включая: планетарную мельницу; прибор для обработки металлов в атмосфере аргона; пилу алмазную настольную
Предназначен для твердофазного синтеза высокотемпературных сверхпроводников
Установка Helios NanoLab 660 для нанолитографии
Установка Helios NanoLab 660 находится на этапе ввода в эксплуатацию.
Установка плазмохимической очистки УПХОА-5300
Предназначена для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности (с блоком генерации сверхчистого кислорода (99,999%) Кулон-10К).
Установка совмещения и экспонирования лазерная, включая генератор изображения лазерный Heidelberg mPG101, с антивибрационным гранитным столом; блоками нанесения и сушки фоторезиста.
Предназначена для лазерной литографии для производства микросхем
