Результаты поиска для: Дифрактометры рентгеновские специальные
Дифрактометры ДРОН-2.0, ДРОН-3.0 и двухкристальный спектрометр ДТС-1.
Ренгенодифракционные исследования ВТСП материалов.
Рентгенодифракционные исследования эпитаксиальных пленок и квантовых ям полупроводниковых материалов.
Установка для рентгеноструктурного анализа Rigaku Miniflex 600
Предназначена для рентгеноструктурного анализа материалов
Характеристики
- Мощность трубки — 600Вт
- Материал анода — Cu
- Фиксированная щель (на выходной пучок) — 1,25°; 0.625°
- Щель подавления фона (на приемном пучке) — 1.25°
- Приемная щель — 0.3мм
- Радиус гониометра — 150мм
- Диапазон углов сканирования — -3 +145°
- Минимальный шаг — 0.01°
- Разрешение, не хуже — 0.01°
- Детектор — сцинтилляционный NaI
- Монохроматор Kb никелевый фильтр
Комплект оборудования для твердофазного синтеза, включая: планетарную мельницу; прибор для обработки металлов в атмосфере аргона; пилу алмазную настольную
Предназначен для твердофазного синтеза высокотемпературных сверхпроводников
Установка Helios NanoLab 660 для нанолитографии
Установка Helios NanoLab 660 находится на этапе ввода в эксплуатацию.
Установка плазмохимической очистки УПХОА-5300
Предназначена для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности (с блоком генерации сверхчистого кислорода (99,999%) Кулон-10К).
Установка совмещения и экспонирования лазерная, включая генератор изображения лазерный Heidelberg mPG101, с антивибрационным гранитным столом; блоками нанесения и сушки фоторезиста.
Предназначена для лазерной литографии для производства микросхем
Оптическая установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
Предназначена для производства микросхем.
Для маленьких и хрупких подложек используется экспонирование при низковакуумном контакте.
При этом виде контактирования снижается нагрузка по подложку. Достигается разрешение, превышающее параметры при мягком и жестком контакте.
Устройство центрифугирования фоторезиста WS-400A (Laurell Technologies)
Предназначена для изготовления наноструктур на основе фоторезиста
Установка для напыления пленок PLD/MBE модель PVD-2300 (PVD)
Установка предназначена для напыления пленок методом лазерного испарения в вакууме с использованием эксимерного лазера
Установки термического напыления пленок ВУП-2
Установка предназначена для напыления плёнок методом термического испарения в вакууме: алюминия (1 установка), индия и свинца (2я установка).
